グラフェンはシリコンの10倍の移動度を示すとされ、次世代センサーや半導体素子への応用が研究されています。General Graphene社は独自のR2R大気圧CVDシステムにより、年間100,000m2のCVDグラフェンフィルムを製造でき、最大20x28cmサイズでの提供が可能です。h-BNはグラフェンとヘテロ構造にすることで、キャリア散乱を抑制し、移動度をさらに高められます。CVD h-BNフィルムは、6"x6"サイズやFew/Multilayerでの提供が可能です。

ナノファイバーは直径1000nm以下の繊維で、非常に高い表面積/体積比や多孔性を有しますが、従来の製法は製造量や品質に課題があります。TruSpin社は、特許取得済みの交流エレクトロスピニング法によって課題を克服し、世界で初めて商業規模の製造を行っています。ラインアップはSiO2、TiO2、Al2O3、ヒアルロン酸、PVPポリマー等で、不織布状で提供されます。PFAS除去用のろ過膜、細胞培養、燃料電池等の用途が期待されています。

シリカ粒子の材料安定性は、高温、有機溶媒中、強紫外線下において信頼性の高い測定を可能にします。また、低毒性で生体適合性にも優れるため測定の一貫性が求められるワークフローや製造現場に適しています。
microParticles社では100 nm以上の単分散のシリカ粒子径標準品を提供しています。半導体製造や医療診断など、正確な粒子径測定や機器校正、測定精度とトレーサビリティが求められる用途に最適です。

セルロースナノファイバー（CNF）、セルロースナノクリスタル（CNC）、バクテリアセルロース（BC）などのセルロースナノ材料をCellulose Lab社より少量からご提供可能です。

研究開発で試してみたい方、少量サンプルから検討したい方に。

・最小5g〜kgスケールまで対応
・多様な表面修飾に対応（カチオン化、カルボキシル化、ポリマーグラフト化など）
・用途に合わせて提供形態を選択可能（水分散、凍結/噴霧乾燥粉末、シート状）

SWIR・MWIRの波長800から3500nmに対応した、鉛フリーのInAsおよびPbS、PbSe、HgTe量子ドットをラインアップ。溶液による容易なコーティングプロセスにより、従来のシリコンイメージングセンサーに替わり、大量生産、製造コストの引き下げが可能です。
OLED向け色変換用量子ドットは、カドミウムフリーで、産業用インクジェット製造向けに設計されています。優れた印刷性、光安定性と高い量子効率を兼ね備えています。

窒化ホウ素ナノチューブ(BNNT)は、カーボンナノチューブと同様の熱安定性、機械的強度がありますが、大きな違いは絶縁性を持つことです。従来のフィラーに数%添加するだけで、熱伝導性の向上を実現します。大量生産が可能で、産業用途への応用が開始されています。
二次元結晶材料はMoS、WSe2などに代表される劈開可能な結晶です。豊富なラインアップおよび短納期が可能です。新たにヘテロ構造作製装置の販売を開始しました。

ペロブスカイト太陽電池の各構造を担う材料を販売しています。
ETL：酸化スズインク（水、IPA、酢酸）
HTL：酸化ニッケル（粉末、IPA）
ペロブスカイト：インク、粉末
透明電極：FTOガラス
高い耐久性、高効率を実現する酸化スズインクは、様々なコーティング技術に対応しています。大量生産を実現し、商業用モジュールへの実装が期待されています。
低温プロセスに対応した酸化ニッケルインクは、フレキシブル基板に最適です。

材料研究開発支援ソフトウェアのxoMatter Platformは、マテリアルズインフォマティクスを活用し、膨大なデータベースから無機材料を「性能」「持続可能性」「コスト」の観点でスクリーニング可能です。
ほぼすべての光学分光法をサポートするapp.speqqleは、複数の異なるデータセットを同時にフィッティング可能なソフトウェアです。バルク、薄膜、多層膜（多層構造）、流体、粉末、ガス、様々なサンプルの解析に対応しています。