1S-G12
単結晶圧電薄膜成膜技術とMEMS加工技術をご紹介
単結晶圧電薄膜(PZT、窒化アルミニウム(AlN))成膜基板の展示、圧電MEMSの受託加工サービス内容の紹介、真空蒸着装置、MEMS技術で開発したデバイス(ニオイセンサ)の展示及びデモンストレーションを行う予定です。是非ともご来場の上、お立ち寄りください。
優れた単結晶圧電薄膜の成膜技術により開発したZrO2 Buffer(下地層)を使用することで、上に成膜する様々な圧電材料を単結晶化し、高性能化することができる優れた圧電MEMS用ウエハー。
PZT(チタン酸ジルコン酸鉛)、窒化アルミニウム(AlN)を展示予定。
圧電MEMS試作から量産までの受託加工、特定のMEMS加工工程など、ご要望に応じて柔軟な対応が可能です。
ZrO2バッファー層成膜用蒸着装置です。
当社ZrO2バッファー層成膜装置を使用し、シリコン基板上にバッファー層を成膜することで、その上に成膜するその他の圧電材料を単結晶に成長することが可能となります。
ニオイを測定するMEMSデバイスです。
圧電薄膜PZTを応用したして開発されたニオイセンサ。
最新製品のnoseStickBBではBluetooth接続に対応し、Battery駆動によって携帯性に優れたモデルです。
専用アプリケーションのデモも体験いただけます。
下記情報は来場者から出展者への事前アポイント・問合せを目的に公開しています。
それ以外の目的(セールス等)で無断に使用・転載する事を固く禁じます。
技術開発統括部 SPG
神奈川県 横浜市港北区新横浜2-3-12 新横浜スクエアビル11F
まとめて聴講登録