• 12月16日(水) 10:15 ~ 12:15
    会場:メインシアター (南3ホール)
    nano tech実行委員会/株式会社JTBコミュニケーションデザイン
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    【nano tech 特別シンポジウム】AI時代のデータセンターの限界を破る
    ー 配線・熱・電力の壁に挑む次世代ナノテクノロジー ー
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    10:15 ~ 10:45
    AI時代のデータセンターの姿:電力消費問題への対応と地域共生
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    西角 直樹 氏
    株式会社三菱総合研究所
    役員室
    研究理事
    【講演者プロフィール】

    1968年、神奈川県生まれ。東京大学工学系大学院修了。1997年より三菱総合研究所で情報通信分野のコンサルティングに従事。2020年より情報通信分野の自主研究・提言活動を統括。「クローズアップ現代」(NHK総合)「プライムニュース」(BSフジ)「おはよう日本」(NHK)「ガイアの夜明け」(テレビ東京)「真相の館」(NHK教育)などテレビ出演多数。


    10:45 ~ 11:15
    配線の壁を破る: フォトニクス技術が拓く次世代配線
    【講演概要】

    AIの急速な発展により、コンピュータ間配線が電気から光への移行が進んでいます。特に半導体素子と光素子を同一基板上に集積するCo-packaged Optics(光電融合技術)が注目されています。光電融合技術に関して産総研の取り組みを中心に紹介します。

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    天野 建 氏
    国立研究開発法人産業技術総合研究所
    光電融合研究センター
    センター長
    【講演者プロフィール】

    2004年東京工業大学にて博士号を取得。産業技術総合研究所に入所。
    2012年からPETRAを兼務し、光電融合研究プロジェクトに従事。
    2018年からプロジェクトチームリーダー。
    2019年から研究グループ長、2023年から総括研究主幹。
    2025年から現職の光電融合研究センター 研究センター長。


    11:15 ~ 11:45
    熱の壁を破る:高熱伝導材料と界面制御が支える次世代冷却技術
    【講演概要】

    AIの急速な進化に伴い、データセンターで使用されるGPUなどには飛躍的な演算性能向上が求められる一方、消費電力および発熱密度が急増し、冷却能力が性能向上を制約する「熱の壁」が顕在化している。このため、発生した熱をいかに効率的に外部へ逃がすかが喫緊の課題であり、その解決には放熱材料の高熱伝導化に加え、デバイスと材料が接する界面の熱抵抗を低減し、熱流路全体を最適化することが不可欠である。本講演では、界面熱抵抗を正確に把握するためにレゾナックが取り組んでいる測定・評価技術を紹介する。さらに、良好な放熱性とパッケージ信頼性の両立を目指したサーマルインターフェイスマテリアルとして、カーボン系材料や低温焼結接合材をはじめとする金属系材料の開発状況を紹介するとともに、バルク樹脂の熱輸送特性に着目した高放熱化への取り組みも報告する。これらを通じ、材料と界面の両面から放熱課題に挑むレゾナックの姿勢を示す。

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    川守 崇司 氏
    株式会社レゾナック
    先端融合研究所 応用材料技術研究センター
    センター長
    【講演者プロフィール】

    2002年大阪大学大学院工学研究科修士課程修了、同年 旧日立化成工業(現レゾナック)に入社し、半導体用後工程材料の研究開発に従事。カリフォルニア大学サンタバーバラ校への派遣を経て、2016年群馬大学大学院にて博士(工学)を取得。次世代層間絶縁膜やウェアラブル・モビリティ用材料など幅広い機能性材料の研究開発を推進し、2026年から応用材料技術研究センター センター長として、次世代半導体材料の研究を統括している。


    11:45 ~ 12:15
    電力の壁を破る:次世代電力インフラを拓くSiC/GaNパワーデバイス
    【講演概要】

    AIの急速な普及に伴い、データセンターの消費電力は急増しており、電力供給能力の確保とエネルギー効率の向上が社会的課題となっている。こうした「電力の壁」を克服するためには、電力変換システムの高効率化、高電力密度化、高信頼化が不可欠であり、その実現を支える中核技術として、従来のSiパワーデバイスの性能限界を超えるSiCやGaNなどのワイドバンドギャップ半導体パワーデバイスへの期待が高まっている。本講演では、AIデータセンターを支える次世代電力インフラの実現に向けて、SiCおよびGaNパワーデバイスが果たす役割を概説するとともに、最新の研究開発動向を紹介する。さらに、これらの技術が切り拓く次世代パワーエレクトロニクスの方向性について議論する。

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    岡本 光央 氏
    国立研究開発法人産業技術総合研究所
    先進パワーエレクトロニクス研究センター
    研究チーム長
    【講演者プロフィール】

    2001年、大阪大学大学院工学研究科博士後期課程修了。同年、産業技術総合研究所(AIST)に入所。以来、SiCパワーデバイスの研究開発に従事し、現在は先進パワーエレクトロニクス研究センター パワーデバイス研究チーム長。近年は、SiC CMOSを用いたパワーICの研究開発を中心に、次世代パワーエレクトロニクス技術の研究に取り組んでいる。博士(工学)。

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